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Electron and hole injection barriers between silicon substrate and RF magnetron sputtered In2O3 : Er films
von
Feklistov, Konstantin V.
,
Lemzyakov, Aleksey G.
,
Shklyaev, Alexander A.
,
Protasov, Dmitry Yu
,
Deryabin, Alexander S.
,
Spesivsev, Evgeny V.
,
Gulyaev, Dmitry V.
,
Pugachev, Alexey M.
,
Esaev, Dmitriy G.
Veröffentlicht in
Modern electronic materials
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Feklistov, Konstantin V.
,
Lemzyakov, Aleksey G.
,
Shklyaev, Alexander A.
,
Protasov, Dmitry Yu
,
Deryabin, Alexander S.
,
Spesivsev, Evgeny V.
,
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,
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,
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