Suchergebnisse - Spaziano, Gregory

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Advances in Resist Materials for 193 nm Lithography von Bowden, Murrae J., Gabor, Allen H., Dimov, Ognian, Medina, Arturo N., Foster, Patrick, Steinhäusler, Thomas, Biafore, John J., Spaziano, Gregory, Slater, Sydney G., Blakeney, Andrew J., Neisser, Mark O., Houlihan, Frank M., Cirelli, Ray A., Dabbagh, Gary, Hutton, Richard S., Rushkin, Ilya L., Sweeney, James R., Timko, Allen G., Nalamasu, Om, Reichmanis, Elsa

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DEVICE MANUFACTURING PROCESS UTILIZING A DOUBLE PATTERING PROCESS von BRZOZOWY, DAVE, SARUBBI, THOMAS R, MALIK, SANJAY, SPAZIANO, GREGORY

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DEVICE MANUFACTURING PROCESS UTILIZING A DOUBLE PATTERING PROCESS von BRZOZOWY, DAVE, SARUBBI, THOMAS, R, MALIK, SANJAY, SPAZIANO, GREGORY

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Photosensitive bilayer composition von Foster, Patrick, Spaziano, Gregory, De, Binod B

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Device manufacturing process utilizing a double patterning process von SARUBBI THOMAS R, MALIK SANJAY, SPAZIANO GREGORY, BRZOZOWY DAVE

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DEVICE MANUFACTURING PROCESS UTILIZING A DOUBLE PATTERING PROCESS von BRZOZOWY, DAVE, SARUBBI, THOMAS, R, MALIK, SANJAY, SPAZIANO, GREGORY

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STRAHLUNGSEMPFINDLICHE COPOLYMERE, FOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN UND ZWEISCHICHTRESISTSYSTEME FÜR DEN TIEFEN UV-BEREICH von FOSTER, PATRICK, SPAZIANO, GREGORY DOMENIC, BIAFORE, JOHN JOSEPH

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STRAHLUNGSEMPFINDLICHE COPOLYMERE, FOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN UND ZWEISCHICHTRESISTSYSTEME FÜR DEN TIEFEN UV- BEREICH von SPAZIANO, GREGORY, DOMENIC, FOSTER, PATRICK, BIAFORE, JOHN, JOSEPH

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RADIATION SENSITIVE COPOLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS THEREOF AND DEEP UV BILAYER SYSTEMS THEREOF von SPAZIANO, GREGORY, DOMENIC, FOSTER, PATRICK, BIAFORE, JOHN, JOSEPH

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Advances in Resist Materials for 193nm Lithography von Bowden, Murrae J., Gabor, Allen H., Dimov, Ognian, Medina, Arturo N., Foster, Patrick, Steinhäusler, Thomas, Biafore, John J., Spaziano, Gregory, Slater, Sydney G., Blakeney, Andrew J., Neisser, Mark O., Houlihan, Frank M., Cirelli, Ray A., Dabbagh, Gary, Hutton, Richard S., Rushkin, Ilya L., Sweeney, James R., Timko, Allen G., Nalamasu, Om, Reichmanis, Elsa

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NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION von DE BINOD B, SPAZIANO GREGORY, FOSTER PATRICK

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NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION von FOSTER, PATRICK, DE, BINOD, B, SPAZIANO, GREGORY

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Radiation sensitive copolymers, photoresist compositions thereof and deep UV bilayer systems thereof von FOSTER, PATRICK, SPAZIANO, GREGORY DOMENIC, BIAFORE, JOHN JOSEPH

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NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION von FOSTER, PATRICK, DE, BINOD, B, SPAZIANO, GREGORY

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Photosensitive bilayer composition von DE BINOD B, SPAZIANO GREGORY, FOSTER PATRICK

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NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION von FOSTER, PATRICK, DE, BINOD, B, SPAZIANO, GREGORY

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Novel photosensitive bilayer composition von DE BINOD B, SPAZIANO GREGORY, FOSTER PATRICK

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Binder resin, radiation sensitive composition comprising the binder resin and method for producing a resist image von BRZOZOWY, DAVID, RUSHKIN, ILYA, MEDINA, ART, MALIK, SANJAY, SPAZIANO, GREGORY

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RADIATION SENSITIVE COPOLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS THEREOF AND DEEP UV BILAYER SYSTEMS THEREOF von SPAZIANO, GREGORY, DOMENIC, FOSTER, PATRICK, BIAFORE, JOHN, JOSEPH

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Photoacid generators for use in photoresist compositions von SPAZIANO, GREGORY DOMINIC, DIMOV, OGNIAN, KOCAB, J. THOMAS, FERREIRA, LAWRENCE, BLAKENEY, ANDREW JOSEPH

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DEVICE MANUFACTURING PROCESS UTILIZING A DOUBLE PATTERING PROCESS von BRZOZOWY, DAVE, SARUBBI, THOMAS R, MALIK, SANJAY, SPAZIANO, GREGORY

DEVICE MANUFACTURING PROCESS UTILIZING A DOUBLE PATTERING PROCESS von BRZOZOWY, DAVE, SARUBBI, THOMAS, R, MALIK, SANJAY, SPAZIANO, GREGORY

Photosensitive bilayer composition von Foster, Patrick, Spaziano, Gregory, De, Binod B

Device manufacturing process utilizing a double patterning process von SARUBBI THOMAS R, MALIK SANJAY, SPAZIANO GREGORY, BRZOZOWY DAVE

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STRAHLUNGSEMPFINDLICHE COPOLYMERE, FOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN UND ZWEISCHICHTRESISTSYSTEME FÜR DEN TIEFEN UV-BEREICH von FOSTER, PATRICK, SPAZIANO, GREGORY DOMENIC, BIAFORE, JOHN JOSEPH

STRAHLUNGSEMPFINDLICHE COPOLYMERE, FOTORESISTZUSAMMENSETZUNGEN UND ZWEISCHICHTRESISTSYSTEME FÜR DEN TIEFEN UV- BEREICH von SPAZIANO, GREGORY, DOMENIC, FOSTER, PATRICK, BIAFORE, JOHN, JOSEPH

RADIATION SENSITIVE COPOLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS THEREOF AND DEEP UV BILAYER SYSTEMS THEREOF von SPAZIANO, GREGORY, DOMENIC, FOSTER, PATRICK, BIAFORE, JOHN, JOSEPH

NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION von DE BINOD B, SPAZIANO GREGORY, FOSTER PATRICK

NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION von FOSTER, PATRICK, DE, BINOD, B, SPAZIANO, GREGORY

Radiation sensitive copolymers, photoresist compositions thereof and deep UV bilayer systems thereof von FOSTER, PATRICK, SPAZIANO, GREGORY DOMENIC, BIAFORE, JOHN JOSEPH

NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION von FOSTER, PATRICK, DE, BINOD, B, SPAZIANO, GREGORY

Photosensitive bilayer composition von DE BINOD B, SPAZIANO GREGORY, FOSTER PATRICK

NOVEL PHOTOSENSITIVE BILAYER COMPOSITION von FOSTER, PATRICK, DE, BINOD, B, SPAZIANO, GREGORY

Novel photosensitive bilayer composition von DE BINOD B, SPAZIANO GREGORY, FOSTER PATRICK

Binder resin, radiation sensitive composition comprising the binder resin and method for producing a resist image von BRZOZOWY, DAVID, RUSHKIN, ILYA, MEDINA, ART, MALIK, SANJAY, SPAZIANO, GREGORY

RADIATION SENSITIVE COPOLYMERS, PHOTORESIST COMPOSITIONS THEREOF AND DEEP UV BILAYER SYSTEMS THEREOF von SPAZIANO, GREGORY, DOMENIC, FOSTER, PATRICK, BIAFORE, JOHN, JOSEPH

Photoacid generators for use in photoresist compositions von SPAZIANO, GREGORY DOMINIC, DIMOV, OGNIAN, KOCAB, J. THOMAS, FERREIRA, LAWRENCE, BLAKENEY, ANDREW JOSEPH

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