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Verifying the band gap narrowing in tensile strained Ge nanowires by electrical means
Veröffentlicht in Nanotechnology
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Bias-tunable temperature coefficient of resistance in Ge transistors
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Calibrated nanoscale dopant profiling using a scanning microwave microscope
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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FIB processing of silicon in the nanoscale regime
Veröffentlicht in Applied physics. A, Materials science & processing
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