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    (Invited) The Assessment of Border Traps in High-Mobility Channel Materials

    (Invited) The Assessment of Border Traps in High-Mobility Channel Materials von Simoen, Eddy, Alian, AliReza, Arimura, Hiroaki, Lin, D, Mertens, Hans, Mitard, Jerome, Sioncke, Sonia, Fang, Wen, Luo, Jun, Zhao, Chao, Mocuta, Anda, Collaert, Nadine, Thean, Aaron, Claeys, Cor

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    (Invited) The Assessment of Border Traps in High-Mobility Channel Materials

    (Invited) The Assessment of Border Traps in High-Mobility Channel Materials von Simoen, Eddy, Alian, AliReza, Arimura, Hiroaki, Lin, D, Mertens, Hans, Mitard, Jerome, Sioncke, Sonia, Fang, Wen, Luo, Jun, Zhao, Chao, Mocuta, Anda, Collaert, Nadine, Thean, Aaron, Claeys, Cor


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    III-V Devices for Advanced CMOS

    III-V Devices for Advanced CMOS von Waldron, Niamh, Nguyen, Ngoc Duy, Lin, Dennis, Brammertz, Guy, Hellings, Geert, Vincent, Benjamin, Firrincieli, Andrea, Sioncke, Sonia, De Jaeger, Brice, Wang, Gang, Krom, Raymond, Mitard, Jérôme, Wang, Wei-E, Passlack, Matthias, Heyns, Marc, Caymax, Matty, Meuris, Marc, Biesemans, Serge, Hoffmann, Thomas


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