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70 nm Silicon-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon Nonvolatile Memory Devices Using Fowler-Nordheim Programming and Hot Hole Erase Method
von
Chae, Soodoo
,
Lee, Changju
,
Kim, Juhyung
,
Sung, Sukkang
,
Sim, Jaeseong
,
Kim, Moonkyung
,
Yoon, Sewook
,
Jeong, Younseok
,
Ryu, Wonil
,
Kim, Taehun
,
Park, Byung-Gook
,
Lee, Jo-won
,
Kim, Chungwoo
Veröffentlicht in
Japanese Journal of Applied Physics
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Institute Of Physics (Iop) Journals - Heal-Link
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