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    Challenges in Nickel Platinum Silicide Wet Etching for Sub-65nm Device Technology

    Challenges in Nickel Platinum Silicide Wet Etching for Sub-65nm Device Technology von Goh, Felicia, Sih, Vincent K.T., Tan, Wee Leng, Ismail, Zainab


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    Tagungsbericht

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    Occurrence of Arsenic-Based Defects and Techniques for Their Elimination

    Occurrence of Arsenic-Based Defects and Techniques for Their Elimination von Chooi, Simon Y.M., Ismail, Zainab, Goh, Felicia, Sih, Vincent, Lim, Christopher

    Veröffentlicht in Solid state phenomena

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