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Characteristics of a fast rise time power supply for a pulsed plasma reactor for chemical vapor destruction
von
Lawless, P.A.
,
Yamamoto, T.
,
Shofran, S.P.
,
Boss, C.B.
,
Nunez, C.M.
,
Ramsey, G.H.
,
Engels, R.L.
Veröffentlicht in
IEEE transactions on industry applications
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