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Anatase to rutile transition in TiO2 thin films: Role of tantalum and oxygen
von
Shukla, Shivam
,
Shirodkar, Soham
,
Panda, Emila
Veröffentlicht in
Journal of alloys and compounds
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Hafnium Oxide-Based Ferroelectric Devices for In-Memory Computing: Resistive and Capacitive Approaches
von
Lee, Minjong
,
Narayan, Dushyant M.
,
Kim, Jin-Hyun
,
Le, Dan N.
,
Shirodkar, Soham
,
Park, Seongbin
,
Kang, Jongmug
,
Lee, Seungbin
,
Ahn, Youngbae
,
Ryu, Seung Wook
,
Kim, Si Joon
,
Kim, Jiyoung
Veröffentlicht in
ACS applied electronic materials
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Sd College Edition Journals Collection - Physical Sciences [Scps]
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