High Selective Plasma Etching of PMMA to PS von Shimomukai, Kazuma, Kawata, Hiroaki, Yasuda, Masaaki, Hirai, Yoshihiko

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Fabrication of Second Generation Replica Mold by Hybrid Polymer Material OrmostampTM von Noma, Hayato, Wang, Si, Uemura, Kimiaki, Shimomukai, Kazuma, Yasuda, Masaaki, Kawata, Hiroaki, Sheer, Hella-Christin, Hirai, Yoshihiko

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Effect of elastic modulus of UV cured resist on demolding force von Shirai, Masamitsu, Uemura, Kimiaki, Shimomukai, Kazuma, Tochino, Takamitsu, Kawata, Hiroaki, Hirai, Yoshihiko

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PMMA etching with high selectivity to polystyrene(PS) von Shimomukai, Kazuma, Kawata, Hiroaki, Yasuda, Masaaki, Hirai, Yoshihiko

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Fabrication of high aspect Si patterns from micron to nano size linewidths von Kawata, Hiroaki, Shimomukai, Kazuma, Yasuda, Masaaki, Hirai, Yoshihiko

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Fabrication of imprint mold for 3D fluid channels by multiple step mask von Kawata, Hiroaki, Shimomukai, Kazuma, Yasuda, Masaaki, Hirai, Yoshihiko

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ポリスチレンに対する高選択比ＰＭＭＡエッチング von 下向, 主真, 川田, 博昭, 安田, 雅昭, 平井, 義彦

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高アスペクト比Siパターンの作製 –ミクロンからナノサイズまで von 川田, 博昭, 下向, 主真, 安田, 雅昭, 平井, 義彦

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多段マスク法による三次元流路用モールドの作製 von 川田, 博昭, 下向, 主真, 安田, 雅昭, 平井, 義彦

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