Fabrication of GaN nanowires containing n+-doped top layer by wet processes using electrodeless photo-assisted electrochemical etching and alkaline solution treatment von Shimauchi, Michihito, Miwa, Kazuki, Toguchi, Masachika, Sato, Taketomo, Motohisa, Junichi

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Fabrication GaN nanowires by electrodeless photo-assisted electrochemical etching and wet etching von Shimauchi, Michihito, Miwa, Kazuki, Toguchi, Masachika, Sato, Taketomo, Motohisa, Junichi

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Study on Microfabrication of GaN by Photo-Electrochemical Etching von Shimauchi, Michihito, Miwa, Kazuki, Toguchi, Masachika, Sato, Taketomo, Motohisa, Junichi

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コンタクトレス光電気化学エッチング及びウェットエッチングによる窒化ガリウムナノワイヤの作製 von 島内, 道人, 三輪, 和希, 渡久地, 政周, 佐藤, 威友, 本久, 順一

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光電気化学エッチングによる窒化ガリウムの微細加工の検討 von 島内, 道人, 三輪, 和希, 渡久地, 政周, 佐藤, 威友, 本久, 順一

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