Process and Resist Parameters Influencing the MEEF Values for Sub-90nm Cntact Hole Patterns von Mortini, Bénédicte, Monget, Cédric, Baron, Fabrice, Faure, Romuald, Martinelli, Catherine, Robert, Fédéric, Serrand, Jérome, Kimura, Toru, Steenbergen, Jan Van

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Phenoscope: an automated large‐scale phenotyping platform offering high spatial homogeneity von Tisné, Sébastien, Serrand, Yann, Bach, Liên, Gilbault, Elodie, Ben Ameur, Rachid, Balasse, Hervé, Voisin, Roger, Bouchez, David, Durand‐Tardif, Mylène, Guerche, Philippe, Chareyron, Gaël, Da Rugna, Jérôme, Camilleri, Christine, Loudet, Olivier

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ELECTROMECHANICAL LINEAR ACTUATOR von SOCHELEAU, Jérôme André Henri, SERRAND, Maxime Julien Florent, MEDINA, Raphael

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La possibilité des îles von Baray, Luc, Barbier, Emmanuel, Barthélémy-Moizan, Emmanuel, Billon, David, Biwer, Nicolas, Bolle, Annie, Bonnissent, Dominique, Casagrande, Fabrice, Cazassus-Bérard, Jeanne, Civalleri, Hélène, Cornec, Thierry, Courtaud, Patrice, Dalle, Serge, Daussy, Axel, Jacquot, Édouard, Jégouzo, Anne, Legendre, Yoann, Leroy, Damien, Mestre, Mickaël, Molet, Henri, Motte, Virginie, Pauly, Martial, Payraud, Nicolas, Peixoto, Xavier, Ravoire, Fabienne, Romon, Thomas, Rouquet, Jérôme, Sellier-Ségard, Nathalie, Serrand, Nathalie, Stouvenot, Christian, Tomadini, Noémie, van den Bel, Martijn, Verdin, Pascal, Yvon, Tristan

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