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    A Conformal Oxide Liner for Through Silicon Vias by Pulsed SA-CVD Deposition

    A Conformal Oxide Liner for Through Silicon Vias by Pulsed SA-CVD Deposition von Sleeckx, Erik, Schaekers, Mark, Durr, Emma


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    Tagungsbericht

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    A Conformal Oxide Liner for Through Silicon Vias by Pulsed SA-CVD Deposition

    A Conformal Oxide Liner for Through Silicon Vias by Pulsed SA-CVD Deposition von Sleeckx, Erik, Schaekers, Mark, Dürr, Emma


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    Atomic Layer Deposition of ZrO 2 , TiO 2 , and ZrTiO 4 Thin Films

    Atomic Layer Deposition of ZrO 2 , TiO 2 , and ZrTiO 4 Thin Films von Opsomer, Karl, Schaekers, Mark, Rampelberg, Geert, Deduytsche, Davy, Detavernier, Christophe, Kittl, Jorge


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    Effect of the dielectric thickness and the metal deposition technique on the mobility for HfO2/TaN NMOS devices

    Effect of the dielectric thickness and the metal deposition technique on the mobility for HfO2/TaN NMOS devices von Trojman, L., Ragnarsson, L.-Å., Pantisano, L., Lujan, G.S., Houssa, M., Schram, T., Cubaynes, F., Schaekers, M., Van Ammel, A., Groeseneken, G., De Gendt, S., Heyns, M.

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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