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    Nanoscale Etching of La0.7Sr0.3MnO3 Without Etch Lag Using Chlorine Based Inductively Coupled Plasma

    Nanoscale Etching of La0.7Sr0.3MnO3 Without Etch Lag Using Chlorine Based Inductively Coupled Plasma von Sarkar, Nimphy, Han, Jaewoo, Dalayoan, Daryll Joseph Chavez, Behera, Satyabrat, Lee, Sang-Hyuk, Chen, Cheng, Kim, Dai-Sik, Sohn, Changhee, Namgung, Seon

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