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Effect of Fluoride‐based Plasma Treatment on the Performance of AlGaN/GaN MISHFET
Veröffentlicht in ETRI journal
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Growth of AlGaN/GaN heterostructure with lattice-matched AlIn(Ga)N back barrier
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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A 60 GHz mixer using 0.25 μm SiGe BiCMOS technology
Veröffentlicht in Microwave and optical technology letters
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