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Atomic layer deposition and etch in a single plasma chamber for fin field effect transistor formation
von
ZHOU, XIANG
,
ZHU, WEIYE
,
LEE, SEOKHWAN
,
KIMURA, YOSHIE
,
HAN, ZHAOHONG
,
UPADHYAYA, GANESH
,
SUN, NOEL YUI
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Internal plasma grid applications for semiconductor fabrication
von
Paterson Alex
,
Kamarthy Gowri
,
Sun Noel Yui
,
Yu Jen-Kan
,
Gani Nicolas
,
Kimura Yoshie
,
Mani Radhika
,
Del Puppo Helene
,
Kim Do Young
,
Titus Monica
,
Chung Ting-Ying
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INTERNAL PLASMA GRID APPLICATIONS FOR SEMICONDUCTOR FABRICATION
von
KIM, Do Young
,
MANI, Radhika
,
GANI, Nicolas
,
CHUNG, Ting-Ying
,
KAMARTHY, Gowri
,
KIMURA, Yoshie
,
TITUS, Monica
,
DEL PUPPO, Helene
,
SUN, Noel Yui
,
PATERSON, Alex
,
YU, Jen-Kan
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Atomic layer deposition and etch in a single plasma chamber for fin field effect transistor formation
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ZHOU, XIANG
,
LEE, SEOK-HWAN
,
ZHU, WEI-YE
,
KIMURA, YOSHIE
,
HAN, ZHAO-HONG
,
UPADHYAYA, GANESH
,
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INTERNAL PLASMA GRID APPLICATIONS FOR SEMICONDUCTOR FABRICATION
von
KIMURA YOSHIE
,
KAMARTHY GOWRI
,
DEL PUPPO HELENE
,
CHUNG TING-YING
,
SUN NOEL YUI
,
KIM DO YOUNG
,
MANI RADHIKA
,
PATERSON ALEX
,
TITUS MONICA
,
YU JEN-KAN
,
GANI NICOLAS
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Internal plasma grid applications for semiconductor fabrication in context of ion-ion plasma processing
von
KIMURA YOSHIE
,
KAMARTHY GOWRI
,
DEL PUPPO HELENE
,
CHUNG TING-YING
,
SUN NOEL YUI
,
KIM DO YOUNG
,
MANI RADHIKA
,
PATERSON ALEX
,
TITUS MONICA
,
YU JEN-KAN
,
GANI NICOLAS
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INTERNAL PLASMA GRID APPLICATIONS FOR SEMICONDUCTOR FABRICATION
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KIMURA YOSHIE
,
KAMARTHY GOWRI
,
DEL PUPPO HELENE
,
CHUNG TING-YING
,
SUN NOEL YUI
,
KIM DO YOUNG
,
MANI RADHIKA
,
PATERSON ALEX
,
TITUS MONICA
,
YU JEN-KAN
,
GANI NICOLAS
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,
CHUNG, TING YING
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KAMARTHY, GOWRI
,
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,
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MANI, RADHIKA
,
KIMURA, YOSHIE
,
KIM, DO YOUNG
,
TITUS, MONICA
,
YU, JEN KAN
,
SUN, NOEL YUI
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,
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KAMARTHY, GOWRI
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KIM, DO-YOUNG
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YU, JEN-KAN
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GANI, NICOLAS
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MANI, RADHIKA
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