Suchergebnisse - SUGITO SHIGEYUKI

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JPH0630354B von SUGITO SHIGEYUKI

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ALIGNING MARK AND MANUFACTURE THEREOF von SUGITO SHIGEYUKI

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FLATTENING MATERIAL AND METHOD von SUGITO SHIGEYUKI

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ETCHING METHOD FOR MOLYBDENUM SILICIDE von SUGITO SHIGEYUKI

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METHOD AND DEVICE FOR CLEANING SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE von SUGITO SHIGEYUKI

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CLEANING METHOD FOR SI SURFACE BY DRY TYPE von SUGITO SHIGEYUKI

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REMOVAL OF RESIST von SUGITO SHIGEYUKI

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METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING METALLIC FILM von SUGITO SHIGEYUKI

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METHOD AND APPARATUS FOR DEPOSITING METAL von SUGITO SHIGEYUKI

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RESIST PATTERN FORMING METHOD von SUGITO SHIGEYUKI

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METHOD FOR REMOVING ORGANIC MATTER AND ITS DEVICE von SUGITO SHIGEYUKI

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ION IMPLANTATION von SUGITO SHIGEYUKI

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RESIST-REMOVING METHOD von SUGITO SHIGEYUKI

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Si photo etching in Cl 2 Gas using a high power Hg lamp von Ikawa, Eiji, Sugito, Shigeyuki, Kurogi, Yukinori

Veröffentlicht in Surface science

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Si photo etching in Cl2 gas using a high power Hg Lamp von IKAWA, E, SUGIMOTO, S, KUROGI, Y

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Submicron pattern transfer with newly designed siloxane e-beam resist and Bias-ECR etcher von Sugito, Shigeyuki, Ishida, Shinji, Iida, Yasuo

Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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METHOD FOR ETCHING POLYSILICON von SUGITO SHIGEYUKI, ISHIDA SHINJI

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METHOD FOR ETCHING SI von SUGITO SHIGEYUKI, ISHIDA SHINJI

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FORMATION OF PATTERN von SUGITO SHIGEYUKI, FUKUZAWA SHINICHI

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METHOD AND DEVICE FOR ETCHING von IGAWA EIJI, SUGITO SHIGEYUKI

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JPH0630354B von SUGITO SHIGEYUKI

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Si photo etching in Cl2 gas using a high power Hg Lamp von IKAWA, E, SUGIMOTO, S, KUROGI, Y

Submicron pattern transfer with newly designed siloxane e-beam resist and Bias-ECR etcher von Sugito, Shigeyuki, Ishida, Shinji, Iida, Yasuo

METHOD FOR ETCHING POLYSILICON von SUGITO SHIGEYUKI, ISHIDA SHINJI

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