-
1
Precise reactive ion etching of Ta absorber on X-ray masks
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
VolltextArtikel -
2
-
3
-
4
-
5
An etching mechanism of Ta by chlorine-based plasmas
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
VolltextArtikel -
6
-
7
-
8
-
9
-
10
-
11
-
12
-
13
Lithography for micro-electronics
Veröffentlicht in Radiation physics and chemistry (Oxford, England : 1993)
VolltextArtikel -
14
-
15
-
16
-
17
Process technologies for Ta/SiC X-ray masks
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
VolltextArtikel -
18
-
19
-
20