-
1
A Water-Castable, Water-Developable Chemically Amplified Negative-Tone Resist
Veröffentlicht in Chemistry of materials
VolltextArtikel -
2
-
3
-
4
Advances in Resist Materials for 193 nm Lithography
Veröffentlicht in Journal of photopolymer science and technology
VolltextArtikel -
5
-
6
-
7
-
8
-
9
-
10
-
11
-
12
-
13
-
14
-
15
Silicon-rich-methacrylate bilayer resist for 193-nm lithography
Veröffentlicht in Solid state technology
VolltextMagazinearticle -
16
-
17
-
18
-
19
-
20