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Machine Learning-Guided Etch Proximity Correction
Veröffentlicht in IEEE transactions on semiconductor manufacturing
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Layout Pattern Synthesis for Lithography Optimizations
Veröffentlicht in IEEE transactions on semiconductor manufacturing
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Memory-Efficient Parametric Semiglobal Matching
Veröffentlicht in IEEE signal processing letters
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Calibration of Compact Resist Model Through CNN Training
Veröffentlicht in IEEE transactions on semiconductor manufacturing
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