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A 100 kV Electron Gun for the X-Ray Mask Writer, EB-X2
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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A beam drift reduction device for the X-ray mask E-beam writer, EB-X2
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Proximity effect correction for X-ray mask fabrication
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Changes in precision engineering. LSI industry
Veröffentlicht in Seimitsu Kōgakkaishi
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High Speed Electron Beam Lithography
Veröffentlicht in Journal of the Japan Society for Precision Engineering
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