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BACKSIDE GAS QUICK DUMP APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER SYSTEM
von
KHOLODENKO ARNOLD
,
SHENDON MAYA
,
HSUEH GARY
,
SAMMONS III JAMES E
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Backside gas quick dump apparatus for a semiconductor wafer processing system
von
SHENDON
,
MAYA
,
HSUEH
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GARY
,
SAMMONS, III
,
JAMES E
,
KHOLODENKO
,
ARNOLD
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Temperature control system for semiconductor process chamber
von
SHENDON
,
MAYA
,
LEE
,
KE LING
,
QUILES
,
EFRAIN
,
KHOLODENKO
,
ARNOLD
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4
Plasma etching apparatus with conductive means for inhibiting arcing
von
GROECHEL
,
DAVID W
,
NITESCU
,
PETRU N
,
SHENDON
,
MAYA
,
STEGER
,
ROBERT J
,
SHERSTINSKY
,
SEMYON
,
REDEKER
,
FRED C
,
LUONG
,
SAMUEL
,
LEE
,
TERRANCE Y
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Esp@Cenet
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