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Anisotropic Etching Using Reactive Cluster Beams
Veröffentlicht in Applied physics express
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Reactive etching by ClF3-Ar neutral cluster beam with scanning
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Reactive etching by ClF 3 –Ar neutral cluster beam with scanning
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Reactive etching by ClF sub(3)-Ar neutral cluster beam with scanning
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Velocity control of ClF3 neutral cluster with He carrier gas
Veröffentlicht in JSAP Annual Meetings Extended Abstracts
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Technique of Wide Area Si Etching with ClF3 Cluster Beam (2)
Veröffentlicht in JSAP Annual Meetings Extended Abstracts
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Fine patterns etching with ClF3 neutral cluster beam
Veröffentlicht in JSAP Annual Meetings Extended Abstracts
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