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Ar plasma irradiation effects in atomically controlled Si epitaxial growth
Veröffentlicht in Applied surface science
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Atomic-order nitridation of SiO2 by nitrogen plasma
Veröffentlicht in Surface and interface analysis
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Contribution of radicals and ions in atomic-order plasma nitridation of Si
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Low-Temperature Epitaxial Si, SiGe, and SiC in a 300mm UHV/CVD Reactor
Veröffentlicht in ECS transactions
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