-
1
-
2
-
3
Nanowire Channel InAlN/GaN HEMTs With High Linearity of gm and fT
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
4
Ionic Metal-Oxide TFTs for Integrated Switching Applications
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
VolltextArtikel -
5
Device Delay in GaN Transistors Under High Drain Bias Conditions
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
6
Passivation effects in Ni∕AlGaN∕GaN Schottky diodes by annealing
Veröffentlicht in Applied physics letters
VolltextArtikel -
7
-
8
Impact of \hbox\hbox Passivation Thickness in Highly Scaled GaN HEMTs
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
9
Gate-recessed integrated E/D GaN HEMT technology with fT/fmax >300 GHz
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
10
-
11
Compositional Study of Copper-Germanium Ohmic Contact to n-GaN
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
VolltextArtikel -
12
Time delay analysis in high speed gate-recessed E-mode InAlN HEMTs
Veröffentlicht in Solid-state electronics
VolltextArtikel -
13
-
14
Nanowire Channel InAlN/GaN HEMTs With High Linearity of g and f
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
15
-
16
-
17
Health Applications for Corporate Health Management
Veröffentlicht in Telemedicine journal and e-health
VolltextArtikel -
18
-
19
Impact of Al2O3 Passivation Thickness in Highly Scaled GaN HEMTs
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
20