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1
Photoresist materials and processes of using with photosensitive naphthoquinone diazides and nitrones
von
SAMIJN
,
RAFAEL P
,
KOKELENBERG
,
HENDRIK E
,
LARIDON
,
URBAIN L
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2
Method for producing images using a photopolymerizable composition
von
VERMEERSCH
,
JOAN T
,
VERBURGH
,
YVES L
,
UYTTERHOEVEN
,
HERMAN J
,
SAMIJN
,
RAFAEL P
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Patent
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3
Method of making aqueous loaded latex compositions
von
VERMEERSCH
,
JOAN T
,
COPPENS
,
PAUL J
,
SAMIJN
,
RAFAEL P
,
TIMMERMAN
,
DANIEL M
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4
Photosensitive recording material and photographic processes wherein said material is used
von
D'HONT
,
DIRK M
,
VAN BESAUW
,
JAN F
,
SAMIJN
,
RAFAEL P
,
LEENDERS
,
LUC H
,
KOKELENBERG
,
HENDRIK E
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5
STABILIZATION OF PHOTOSENSITIVE RECORDING MATERIAL
von
SAMIJN, RAFAEL P
,
KOKELENBERG, HENDRIK E
,
VAN DEN HOUTE, JOZEF W
,
POLLET, ROBERT J
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Patent
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6
FLUORINE-CONTAINING SURFACTANTS AND THEIR USE IN HYDROPHILIC COLLOID COATING COMPOSITIONS AND LIGHT-SENSITIVE SILVER HALIDE MATERIALS
von
SAMIJN, RAFAEL P
,
KOKELENBERG, HENDRIK E
,
VILLE, FRANS J
,
DE JAEGER, NIKOLAAS C
,
POLLET, ROBERT J
,
SELS, FRANCIS J
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Patent
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7
Light-sensitive silver halide materials containing fluorine-containing surfactants
von
VILLE
,
FRANS J
,
POLLET
,
ROBERT J
,
SAMIJN
,
RAFAEL P
,
KOKELENBERG
,
HENDRIK E
,
SELS
,
FRANCIS J
,
DE JAEGER
,
NIKOLAAS C
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Esp@Cenet
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