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Etch stop layer
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van Schravendijk, Bart J
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Hamma, Soumana
,
Ou, Kai-Lin
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Li, Ming
,
Samantaray, Malay Milan
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Nitride films with improved etch selectivity for 3D NAND integration
von
Subramonium, Pramod
,
Yoshizawa, Katsunori
,
VanSchravendijk, Bart J
,
Shankar, Nagraj
,
Samantaray, Malay Milan
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HIGH MODULUS CARBON DOPED SILICON OXIDE FILM FOR MOLD STACK SCALING SOLUTIONS IN ADVANCED MEMORY APPLICATIONS
von
REDDY, Kapu Sirish
,
SUBRAMONIUM, Pramod
,
BANERJI, Ananda K
,
HAYNES, Katherine Elizabeth
,
SAMANTARAY, Malay Milan
,
HAMMA, Soumana
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ETCH STOP LAYER
von
van Schravendijk, Bart J
,
Hamma, Soumana
,
Ou, Kai-Lin
,
Li, Ming
,
Samantaray, Malay Milan
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5
NITRIDE FILMS WITH IMPROVED ETCH SELECTIVITY FOR 3D NAND INTEGRATION
von
Subramonium, Pramod
,
Yoshizawa, Katsunori
,
VanSchravendijk, Bart J
,
Shankar, Nagraj
,
Samantaray, Malay Milan
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ETCH STOP LAYER
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VAN SCHRAVENDIJK, Bart J
,
SAMANTARAY, Malay Milan
,
LI, Ming
,
HAMMA, Soumana
,
OU, Kai-Lin
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7
Nitride films with improved etch selectivity for 3d nand integration
von
SUBRAMONIUM, PRAMOD
,
VAN SCHRAVENDIJK, BART J
,
SHANKAR, NAGRAJ
,
YOSHIZAWA, KATSUNORI
,
SAMANTARAY, MALAY MILAN
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8
ETCH STOP LAYER
von
VAN SCHRAVENDIJK, Bart J
,
SAMANTARAY, Malay Milan
,
LI, Ming
,
HAMMA, Soumana
,
OU, Kai-Lin
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9
High modulus carbon doped silicon oxide film for mold stack scaling solutions in advanced memory applications
von
SUBRAMONIUM, PRAMOD
,
HAMMA, SOUMANA
,
BANERJI, ANANDA K
,
SAMANTARAY, MALAY MILAN
,
HAYNES, KATHERINE ELIZABETH
,
REDDY, KAPU SIRISH
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3D NAND 집적에 대해 개선된 에칭 선택도를 가지는 나이트라이드 막들
von
YOSHIZAWA KATSUNORI
,
SUBRAMONIUM PRAMOD
,
SHANKAR NAGRAJ
,
SAMANTARAY MALAY MILAN
,
VAN SCHRAVENDIJK BART J
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ETCH STOP LAYER
von
HAMMA SOUMANA
,
OU KAI-LIN
,
SAMANTARAY MALAY MILAN
,
RI AKIRA
,
VAN SCHRAVENDIJK BART J
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Nitride films with improved etch selectivity for 3D NAND integration
von
SUBRAMONIUM, PRAMOD
,
VAN SCHRAVENDIJK, BART J
,
SHANKAR, NAGRAJ
,
YOSHIZAWA, KATSUNORI
,
SAMANTARAY, MALAY MILAN
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Etch stop layer
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VAN SCHRAVENDIJK, BART J
,
OU, KAI-LIN
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LI, MING
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SAMANTARAY, MALAY MILAN
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