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SAJAN MAROKKEY RAPHAEL
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HYBRID ALIGNMENT MARKS FOR OPTIMAL ALIGNMENT OF THREE-DIMENSIONAL LAYERS
von
SAJAN, MAROKKEY RAPHAEL
,
ALEX CHENG TSUN-LUNG
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2
Hybrid alignment marks for optimal alignment of three-dimensional layers
von
CHENG ALEX (TSUN-LUNG)
,
SAJAN MAROKKEY RAPHAEL
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3
ONE STEP DUAL DAMASCENE PATTERNING BY GRAY TONE MASK
von
ZHU SUI HUA
,
SAJAN, MAROKKEY RAPHAEL
,
ALEX CHENG TSUN-LUNG
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4
One step dual damascene patterning by gray tone mask
von
HUA ZHU SUI
,
SAJAN MAROKKEY RAPHAEL
,
CHENG TSUN-LUNG ALEX
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5
ACCURATE WAFER PATTERNING METHOD FOR MASS PRODUCTION
von
JUAN BOON TAN
,
FANG HONG GN
,
SAJAN MAROKKEY RAPHAEL
,
TAK YAN TSE
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6
Accurate wafer patterning method for mass production
von
Tan, Juan Boon
,
Tse, Tak Yan
,
Raphael, Sajan Marokkey
,
Gn, Fang Hong
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7
Accurate wafer patterning method for mass production
von
TSE TAK YAN
,
RAPHAEL SAJAN MAROKKEY
,
GN FANG HONG
,
TAN JUAN BOON
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8
TRI-LAYER RESIST METHOD FOR DUAL DAMASCENE PROCESS
von
MAROKKEY RAPHAEL SAJAN
,
CHENG TSUN-LUNG, ALEX
,
LEONG TEE, KOH
,
JOSEPH XIE ZHIPENG
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9
MIM and metal resistor formation at CU beol using only one extra mask
von
Ng, Chit Hwei
,
Ho, Chaw Sing
,
Leong, Lup San
,
Kai, Shao
,
Joy, Raymond Jacob
,
Chu, Sanford
,
Raphael, Sajan Marokkey
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10
Tri-layer resist method for dual damascene process
von
KOH LEONG TEE
,
XIE JOSEPH ZHIFENG
,
SAJAN MAROKKEY RAPHAEL
,
CHENG TSUN-LUNG ALEX
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11
MIM AND METAL RESISTOR FORMATION AT CU BEOL USING ONLY ONE EXTRA MASK
von
RAYMOND JACOB JOY
,
LUP SAN LEONG
,
CHIT HWEI NG
,
SAJAN MAROKKEY RAPHAEL
,
SANFORD CHU
,
SHAO KAI
,
CHAW SING HO
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12
MIM AND METAL RESISTOR FORMATION AT CU BEOL USING ONLY ONE EXTRA MASK
von
HO CHAW SING
,
RAPHAEL SAJAN MAROKKEY
,
CHU SANFORD
,
KAI SHAO
,
JOY RAYMOND JACOB
,
LEONG LUP SAN
,
NG CHIT HWEI
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Patent
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13
MIM and metal resistor formation at CU beol using only one extra mask
von
HO CHAW SING
,
RAPHAEL SAJAN MAROKKEY
,
CHU SANFORD
,
KAI SHAO
,
JOY RAYMOND JACOB
,
LEONG LUP SAN
,
NG CHIT HWEI
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