Suchergebnisse - SAI SEIUN | OPAC THWS

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EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF EXPOSING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE von KIM BYUNG-GOOK, NAM DONG-SEOK, SAI SEIUN

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2

PHOTOMASK INCLUDING SHADOWING ELEMENT, AND RELATED METHOD AND SYSTEM von KIM SOONHO, SAI SEIUN, BUN SEIYO, BOKU CHINKO

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3

Photomask for providing uniform CD (critical dimension) in semiconductor device, and method for manufacturing same von RI TOKON,SAI SEIUN,JEON CHAN-UK,KIM BYUNG-GOOK

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4

PHOTOMASK FOR PROVIDING UNIFORM CD (CRITICAL DIMENSION) IN SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME von KIM BYUNG-GOOK, SAI SEIUN, JEON CHAN-UK, RI TOKON

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5

PHOTOMASK AND METHOD OF CORRECTING TRANSMISSIVITY OF PHOTOMASK von SUNG MOON-GYU, SAI SEIUN, AHN WON-SUK, LEE JEONG-YUN, CHO SUNG-YONG

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6

METHOD OF REPAIRING PHASE SHIFT MASK von HAN SUNG-JAE, JANG IL-YONG, SAI SEIUN, LEE JEONG-YUN, AHN WON-SUK

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7

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK BY THE SAME, AND EXPOSURE METHOD UTILIZING SAME von SAI SEIUN, PARK JONG-RAK, JANG SUNG-HOON, RO KISEI

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8

PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME von SHIN IN-KYUN, SON SEIBIN, YOON HEE-SUN, SAI SEIUN

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9

FLARE MEASURING MASK, METHOD OF MANUFACTURING MASK, METHOD FOR SETTING FLARE INFLUENCE AREA ON WAFER AND METHOD OF MANUFACTURING MASK FOR FLARE CORRECTION von KI GENDAI, KAN USEI, SON SEIBIN, CHIN ZENYU, SAI SEIUN, TEI TAIBUN

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10

PROJECTION EXPOSURE METHOD, PROJECTION ALIGNER USED FOR IT AND MASK von KAN USEI, KIN TETSUKOU, SAI SEIUN, KYO HIROHIDE, SON SHIYOUCHIN

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