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Development of aluminum chemical mechanical planarization
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Two gates are better than one [double-gate MOSFET process]
Veröffentlicht in IEEE circuits and devices magazine
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Advanced metallization technology for 256M DRAM
Veröffentlicht in Applied surface science
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New insight into silicide formation: The creation of silicon self-interstitials
Veröffentlicht in Physical review letters
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Reinvestigation of first phase nucleation in planar metal-Si reaction couples
Veröffentlicht in Applied physics letters
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New insight into silicide formation: the creation of silicon self-interstitial
Veröffentlicht in Physical review letters
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Hole formation in orthorhombic and tetragonal YBa2Cu
Veröffentlicht in Physical review. B, Condensed matter
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