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Wetting behavior of plasma treated low-k films in dHF cleans solutions
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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High temperature water as a clean and etch of low-k and SiO2 films
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Effects of plasmas on porous low dielectric constant CVD SiOCH films
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Reinforcement mechanism for mechanically enhanced xerogel films
Veröffentlicht in Journal of non-crystalline solids
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Electrical conductivity and point defect behavior in ceria-stabilized zirconia
Veröffentlicht in Solid state ionics
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Behavior of copper ions in silica xerogels
Veröffentlicht in Journal of non-crystalline solids
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Dielectric behavior of triethoxyfluorosilane aerogels
Veröffentlicht in Journal of non-crystalline solids
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Gaussian random field models of aerogels
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Scandia, yttria-stabilized zirconia for thermal barrier coatings
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
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