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    The effect of substrate temperature on P-CVD deposited a-SiGe : H films

    The effect of substrate temperature on P-CVD deposited a-SiGe : H films von Rashad, Abduljabbar, Sali, Jaydeep V., Marathe, B.R., Takwale, M.G., Shaligram, A.D.


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    Interelectrode separation effects on a-SiGe:H films prepared by plasma chemical vapor deposition

    Interelectrode separation effects on a-SiGe:H films prepared by plasma chemical vapor deposition von Sali, Jaydeep V, Rashad, Abduljabbar, Marathe, B.R, Takwale, M.G, Gangurde, K.D, Shaligram, A.D

    Veröffentlicht in Thin solid films

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