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    Fuzzy control of temperature in a semiconductor processing furnace

    Fuzzy control of temperature in a semiconductor processing furnace von Ramiller, C.L., Mo-Yuen Chow, Kuehn, R.T.

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    Marker studies of silicide formation, silicon self-diffusion and silicon epitaxy using radioactive silicon and Rutherford backscattering

    Marker studies of silicide formation, silicon self-diffusion and silicon epitaxy using radioactive silicon and Rutherford backscattering von Pretorius, R., Ramiller, C.L., Nicolet, M-A.

    Veröffentlicht in Nuclear instruments & methods

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