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In-line control of Si loss after post ion implantation strip
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Degradation of 248 nm Deep UV Photoresist by Ion Implantation
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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Long-range electron binding to quadrupolar molecules
Veröffentlicht in Physical review letters
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Boron cluster anions containing multiple B 12 icosahedra
Veröffentlicht in Chemical physics letters
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Boron cluster anions containing multiple B12 icosahedra
Veröffentlicht in Chemical physics letters
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Photoelectron spectroscopy of chromium-doped silicon cluster anions
Veröffentlicht in The Journal of chemical physics
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Metrology for Implanted Si Substrate Loss Studies
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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