Suchergebnisse - Puthankovilakam, Krishnaparvathy | OPAC THWS

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Unified rule based correction for corners in proximity lithography mask using high resolution features von Puthankovilakam, Krishnaparvathy, Scharf, Toralf, Herzig, Hans Peter, Vogler, Uwe, Voelkel, Reinhard

Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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OPTICAL ELEMENT FOR GENERATION OF BROADBAND RADIATION von PONGERS, Willem, SMEETS, Ralph, ABDOLVAND, Amir, PUTHANKOVILAKAM, Krishnaparvathy, UEBEL, Patrick

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OPTICAL ELEMENT FOR GENERATION OF BROADBAND RADIATION von SMEETS, Ralph, Jozef, Johannes, Gerardus, Anna, ABDOLVAND, Amir, PONGERS, Willem, Richard, PUTHANKOVILAKAM, Krishnaparvathy, UEBEL, Patrick, Sebastian

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OPTICAL ELEMENT FOR GENERATION OF BROADBAND RADIATION von PONGERS, Willem Richard, UEBEL, Patrick Sebastian, ABDOLVAND, Amir, PUTHANKOVILAKAM, Krishnaparvathy, SMEETS, Ralph Jozef Johannes Gerardus Anna Maria

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OPTICAL ELEMENT FOR GENERATION OF BROADBAND RADIATION von SMEETS, Ralph, Jozef, Johannes, Gerardus, Anna, ABDOLVAND, Amir, PONGERS, Willem, Richard, PUTHANKOVILAKAM, Krishnaparvathy, UEBEL, Patrick, Sebastian

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Limitations of Proximity Lithography Printing:Simulations, Experiments, and Applications von Puthankovilakam, Krishnaparvathy

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