Analysis of artificially degraded DNA using STRs and SNPs—results of a collaborative European (EDNAP) exercise von Dixon, L.A., Dobbins, A.E., Pulker, H.K., Butler, J.M., Vallone, P.M., Coble, M.D., Parson, W., Berger, B., Grubwieser, P., Mogensen, H.S., Morling, N., Nielsen, K., Sanchez, J.J., Petkovski, E., Carracedo, A., Sanchez-Diz, P., Ramos-Luis, E., Briōn, M., Irwin, J.A., Just, R.S., Loreille, O., Parsons, T.J., Syndercombe-Court, D., Schmitter, H., Stradmann-Bellinghausen, B., Bender, K., Gill, P.

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Plasma diagnostic of ion and plasma PVD processes von Strauss, G.N., Pulker, H.K.

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Preface von Pulker, H.K.

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Surface roughness characterization of smooth optical films deposited by ion plating von JAKOBS, S, DUPARRE, A, HUTER, M, PULKER, H. K

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Gas pressures influence on the optical and mechanical properties of Ta 2 O 5 films produced by reactive low voltage ion plating (RLVIP) von Strauss, G.N, Lechner, W, Pulker, H.K

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Overview about the optical properties and mechanical stress of different dielectric thin films produced by reactive-low-voltage-ion-plating von Hallbauer, A., Huber, D., Strauss, G.N., Schlichtherle, S., Kunz, A., Pulker, H.K.

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ITO-coatings by reactive low-voltage ion plating: film properties and plasma analysis von Huber, Daniel, Pulker, H.K

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Wasserpermeation durch Polymere und keramische Substrate von Hübner, Susanne, Pulker, H.K.

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Laser treatment of optical Nb 2 O 5 ‐ and HfO 2 ‐films von Huber, D., Prein, F., Pulker, H.K.

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Integrated optical sensors based on reactive low-voltage ion-plated films von Kunz, R.E., Du, C.L., Edlinger, J., Pulker, H.K., Seifert, M.

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The origin of mechanical stress in vacuum-deposited MgF2 and ZnS films von Pulker, H.K., Mäser, J.

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Laser treatment of optical Nb2O5- and HfO2-films von Huber, D., Prein, F., Pulker, H.K.

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Influence of Relevant Gas Pressure on the Properties of Ionplated Ta2O5 Films. Einfluss relevanter Gasdrücke auf die Eigenschaften ionenplattierter Ta2O5 Schichten von Schlichtherle, S., Huber, D., Pulker, H.K.

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Influence of Relevant Gas Pressure on the Properties of Ionplated Ta 2 O 5 Films. Einfluss relevanter Gasdrücke auf die Eigenschaften ionenplattierter Ta 2 O 5 Schichten von Schlichtherle, S., Huber, D., Pulker, H.K.

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Stress measurements and calculations for vacuum- deposited MgF2 films von Pulker, H.K.

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Reactive Low Voltage Ion Plating (RLVIP). Prozess-, Plasma- und Schichteigenschaften am Beispiel von Ta2O5/SiO2 von Schlichterle, S., Strauss, G. N., Tafelmeier, H., Huber, D., Pulker, H.K.

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Wasserpermeation durch Polymere und keramische Substrate von Hübner, Susanne, Pulker, H.K.

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Properties of reactively d.c.-magnetron-sputtered A1N thin films von Rille, E., Zarwasch, R., Pulker, H.K.

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Barriereschichten für medizinische elektronische Implantate. Barrier coatings for medical electronic implants von Lechleitner, T., Nagl, M., Pulker, H.K., Hochmaier, E.

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Morphology of ion-plated titanium and aluminum films deposited at various substrate temperatures von Lardon, M., Buhl, R., Signer, H., Pulker, H.K., Moll, E.

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