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Deposition of thin [Bi.sub.2][Te.sub.3] and [Sb.sub.2][Te.sub.3] films by pulsed laser ablation
von
Virt, I.S
,
Shkumbatyuk, T.P
,
Kurilo, I.V
,
Rudyi, I.O
,
Lopatinskyi, T. Ye
,
Linnik, L.F
,
Tetyorkin, V.V
,
Phedorov, A.G
Veröffentlicht in
Semiconductors (Woodbury, N.Y.)
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