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Understanding of the thermal stability of the hafnium oxide/TiN stack via 2 "high k" and 2 metal deposition techniques
von
Cosnier, V.
,
Besson, P.
,
Loup, V.
,
Vandroux, L.
,
Minoret, S.
,
Casse, M.
,
Garros, X.
,
Pedini, Jm
,
Lhostis, S.
,
Dabertrand, K.
,
Morin, Céline
,
Wiemer, C.
,
Perego, M.
,
Fanciulli, M.
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Microelectronic engineering
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Charm system tests of CPT and Lorentz invariance with FOCUS
von
Link, J.M.
,
Reyes, M.
,
Yager, P.M.
,
Anjos, J.C.
,
Bediaga, I.
,
Göbel, C.
,
Magnin, J.
,
Massafferri, A.
,
de Miranda, J.M.
,
Pepe, I.M.
,
dos Reis, A.C.
,
Carrillo, S.
,
Casimiro, E.
,
Cuautle, E.
,
Sánchez-Hernández, A.
,
Uribe, C.
,
Vázquez, F.
,
Agostino, L.
,
Cinquini, L.
,
Cumalat, J.P.
,
O'Reilly, B.
,
Ramirez, J.E.
,
Segoni, I.
,
Wahl, M.
,
Butler, J.N.
,
Cheung, H.W.K.
,
Chiodini, G.
,
Gaines, I.
,
Garbincius, P.H.
,
Garren, L.A.
,
Gottschalk, E.
,
Kasper, P.H.
,
Kreymer, A.E.
,
Kutschke, R.
,
Benussi, L.
,
Bianco, S.
,
Fabbri, F.L.
,
Zallo, A.
,
Cawlfield, C.
,
Kim, D.Y.
,
Park, K.S.
,
Wiss, J.
,
Gardner, R.
,
Kryemadhi, A.
,
Chang, K.H.
,
Chung, Y.S.
,
Kang, J.S.
,
Ko, B.R.
,
Kwak, J.W.
,
Lee, K.B.
,
Cho, K.
,
Park, H.
,
Alimonti, G.
,
Boschini, M.
,
Cerutti, A.
,
D'Angelo, P.
,
DiCorato, M.
,
Dini, P.
,
Edera, L.
,
Erba, S.
,
Giammarchi, M.
,
Inzani, P.
,
Leveraro, F.
,
Malvezzi, S.
,
Menasce, D.
,
Mezzadri, M.
,
Moroni, L.
,
Pedrini, D.
,
Pontoglio, C.
,
Rovere, M.
,
Sala, S.
,
Davenport, T.F.
,
Arena, V.
,
Boca, G.
,
Bonomi, G.
,
Gianini, G.
,
Liguori, G.
,
Merlo, M.M.
,
Pantea, D.
,
Pegna, D.L.
,
Ratti, S.P.
,
Riccardi, C.
,
Hernandez, H.
,
Lopez, A.M.
,
Luiggi, E.
,
Mendez, H.
,
Paris, A.
,
Xiong, W.
,
Zhang, Y.
,
Wilson, J.R.
,
Handler, T.
,
Mitchell, R.
,
Engh, D.
,
Johns, W.E.
,
Nehring, M.
,
Sheldon, P.D.
,
Stenson, K.
,
Vaandering, E.W.
,
Webster, M.
,
Sheaff, M.
Veröffentlicht in
Physics letters. B
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