Suchergebnisse - Parameshwaran, Biju | OPAC THWS

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Bias-Induced Healing of V} Failures in Advanced SRAM Arrays von Mann, Randy W., McMahon, William, Randriamihaja, Yoann Mamy, Yuncheng Song, Kallianpur, Ajay Anand, Sheng Xie, Gautam, Akhilesh, Versaggi, Joseph, Parameshwaran, Biju, Weintraub, Chad E.

Veröffentlicht in IEEE transactions on very large scale integration (VLSI) systems

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Impact of wafer thinning on High-K Metal Gate 20nm devices von Beece, Adam, Agarwal, Rahul, Chandrashekhar, Sandhya, Singh, Jagar, Siddhartha, Siddhartha, Alapati, Ramakanth, Parameshwaran, Biju, Dumas, Jeff, Alvanos, Tyson

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3

Test device for determining charge damage to a transistor von MADHAVAN SRIRAM, PARAMESHWARAN BIJU, CARLSON ANDREW E

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Test device for determining charge damage to a transistor von Parameshwaran, Biju, Madhavan, Sriram, Carlson, Andrew E

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Method of manufacturing an oxide-nitride-oxide (ONO) dielectric for SONOS-type devices von Ramkumar, Krishnaswamy, Rathor, Manuj, Parameshwaran, Biju, Lancaster, Loren

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Method of manufacturing an oxide-nitride-oxide (ONO) dielectric for SONOS-type devices von LANCASTER LOREN, RATHOR MANUJ, PARAMESHWARAN BIJU, RAMKUMAR KRISHNASWAMY

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Method for and structure formed from fabricating a relatively deep isolation structure von NARAYANAN SUNDAR, PARAMESHWARAN BIJU, BAMNOLKER HANNA, GOPALAN PRABHURAM, RAMKUMAR KRISHNASWAMY

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Method for and structure formed from fabricating a relatively deep isolation structure von Gopalan, Prabhuram, Parameshwaran, Biju, Ramkumar, Krishnaswamy, Bamnolker, Hanna, Narayanan, Sundar

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Methods for fabricating magnetic cell junctions and a structure resulting and/or used for such methods von Geha, Sam, Schwarz, Benjamin C. E, Choi, Chang Ju, Parameshwaran, Biju, Chen, Eugene Y, Chung, Helen L, Ounadjela, Kamel, Kula, Witold

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Methods for fabricating magnetic cell junctions and a structure resulting and/or used for such methods von CHOI CHANG JU, CHUNG HELEN L, PARAMESHWARAN BIJU, CHEN EUGENE Y, OUNADJELA KAMEL, SCHWARZ BENJAMIN C. E, GEHA SAM, KULA WITOLD

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