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Proximity E-beam exposure in submicron patterns using a silylation process
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Thermal conversion of ppv precursor: characterization at different stages of the process
Veröffentlicht in Synthetic metals
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Silylation of three component E-beam resists: application to shipley SAL 601
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Cinétique de la diffusion de l'eau dans un film mince de photoresist
Veröffentlicht in Die Makromolekulare Chemie
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Study of advanced 193nm resists
Veröffentlicht in Journal of photopolymer science and technology
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Cinétique de la diffusion de l'eau dans un film mince de photoresist
Veröffentlicht in Die Makromolekulare Chemie
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