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Status of High-Index Materials for Generation-Three 193nm Immersion Lithography
von
Zimmerman, Paul A.
,
Peski, Chris van
,
Rice, Bryan
,
Byers, Jeff
,
Turro, Nicholas J.
,
Lei, Xuegong
,
Gejo, Juan Lopez
,
Liberman, Vladmir
,
Palmacci, Steve
,
Rothchild, Mordy
,
Whitker, Andrew
,
Blakey, Idriss
,
Chen, Lan
,
Dargaville, Bronwin
,
Liu, Heping
Veröffentlicht in
Journal of Photopolymer Science and Technology
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