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HDP-CVD SiON films for gap-fill
von
PURNAWAN RIONARD
,
LEE YOUNG S
,
MUNGEKAR HEMANT P
,
HUA ZHONG QIANG
,
JAKUBOWICZ AGNIESZKA
,
KAMATH SANJAY
,
ZYGMUNT WALTER
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HDP-CVD SiON films for gap-fill
von
Mungekar, Hemant P
,
Lee, Young S
,
Jakubowicz, Agnieszka
,
Hua, Zhong Qiang
,
Purnawan, Rionard
,
Kamath, Sanjay
,
Zygmunt, Walter
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MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP (DEPOSITION-ETCHING-DEPOSITION) HIGH-DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESS FOR FILLING DIELECTRIC GAP
von
PURNAWAN RIONARD
,
YIEH ELLIE Y
,
BLOKING JASON THOMAS
,
LEE YOUNG S
,
HUA ZHONG QIANG
,
WANG ANCHUAN
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MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESSES FOR DIELECTRIC GAPFILLS
von
PURNAWAN RIONARD
,
YIEH ELLIE Y
,
BLOKING JASON THOMAS
,
LEE YOUNG S
,
HUA ZHONG QIANG
,
WANG ANCHUAN
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MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESSES FOR DIELECTRIC GAPFILLS
von
PURNAWAN RIONARD
,
YIEH ELLIE Y
,
BLOKING JASON THOMAS
,
LEE YOUNG S
,
HUA ZHONG QIANG
,
WANG ANCHUAN
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MULTI-STEP DEP-ETCH-DEP HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION PROCESSES FOR DIELECTRIC GAPFILLS
von
PURNAWAN RIONARD
,
YIEH ELLIE Y
,
BLOKING JASON THOMAS
,
HUA ZHONG QIANG
,
WANG ANCHUAN
,
LEE, YOUNG S
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HDP-CVD SION FILMS FOR GAP-FILL
von
PURNAWAN RIONARD
,
LEE YOUNG S
,
MUNGEKAR HEMANT P
,
HUA ZHONG QIANG
,
JAKUBOWICZ AGNIESZKA
,
KAMATH SANJAY
,
ZYGMUNT WALTER
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8
Multi-step dep-etch-dep high density plasma chemical vapor deposition processes for dielectric gapfills
von
PURNAWAN RIONARD
,
BLOKING JASON THOMAS
,
HUA ZHONG QIANG
,
WANG ANCHUAN
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9
Multi-step dep-etch-dep high density plasma chemicl vapor deposition processes for dielectric gapfills
von
PURNAWAN, RIONARD
,
WANG, ANCHUAN
,
HUA, ZHONG-QIANG
,
YIEH, ELLIE Y
,
BLOKING, JASON THOMAS
,
LEE, YOUNG S
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Coating Metallic Material
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Esp@Cenet
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