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Effect of composition on thermal stability and electrical resistivity of Ta–Si–N films
Veröffentlicht in Thin solid films
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Preparation and characterization of MOCVD thin films of indium tin oxide
Veröffentlicht in Optical materials
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Thermally oxidized AlN thin films for device insulators
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Preparation and optical characterization of MOCVD ZnCdInS thin films
Veröffentlicht in Optical materials
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The effect of Ta to Si ratio on magnetron sputtered Ta-Si-N thin films
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Electrical and optical properties of phosphorus doped Ge1-yCy
Veröffentlicht in Thin solid films
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Influence of the nature of the Si substrate on nickel silicide formed from thin Ni films
Veröffentlicht in Thin solid films
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Interfacial reaction of Mo-W alloys with silicon
Veröffentlicht in Thin solid films
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Iron silicide thin film formation at low temperatures
Veröffentlicht in Thin solid films
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