-
1
-
2
-
3
-
4
-
5
NiSi salicide technology for scaled CMOS
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
VolltextArtikel -
6
-
7
-
8
-
9
HiSIM2: Advanced MOSFET Model Valid for RF Circuit Simulation
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
VolltextArtikel -
10
-
11
-
12
-
13
-
14
-
15
A creep-immune electrostatic actuator for RF-MEMS tunable capacitor
Veröffentlicht in Sensors and actuators. A. Physical.
VolltextArtikel -
16
-
17
-
18
1.5 nm direct-tunneling gate oxide Si MOSFET's
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
VolltextArtikel -
19
-
20
The impact of scaling down to deep submicron on CMOS RF circuits
Veröffentlicht in IEEE journal of solid-state circuits
VolltextArtikel