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Study on Curing Characteristic of UV Nanoimprint Resist
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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Filling Behavior Observation on UV Nanoimprint Lithography
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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Evaluation of the curing process of UV resins in a 1,1,1,3,3-pentafluoropropane gas environment by photo differential scanning calorimetry and Fourier transform infrared spectrosco...
Veröffentlicht in Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures processing, measurement and phenomena
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Observation of Filling Behavior in UV-nanoimprinting Using a Mold with Hollow Grid Structure
Veröffentlicht in Seikei kakou
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Observation of Filling Behavior in UV-nanoimprinting Using a Mold with Hollow Grid Structure
Veröffentlicht in Seikei-Kakou
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PML isoform II plays a critical role in nuclear lipid droplet formation
Veröffentlicht in The Journal of cell biology
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