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Electron trapping in ferroelectric HfZrO4 and Al- and Si-doped layers
Veröffentlicht in SOLID-STATE ELECTRONICS
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Shallow electron traps in high-k insulating oxides
Veröffentlicht in SOLID-STATE ELECTRONICS
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Interface of ultrathin HfO2 films deposited by UV-photo-CVD
Veröffentlicht in Thin solid films
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Electron trapping in ferroelectric HfZrO4 and Al- and Si-doped layers
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Shallow electron traps in high-k insulating oxides
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Investigation of Imprint in FE-HfO2 and Its Recovery
Veröffentlicht in IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES
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