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The diffusion approximation applied to sputter depth profiling
Veröffentlicht in Radiation effects and defects in solids
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Topography development on selected inert gas and self-ion bombarded Si
Veröffentlicht in Vacuum
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Ion-beam-induced topography and compositional changes in depth profiling
Veröffentlicht in Surface and interface analysis
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The evolution of atomic scale topography by sputtering erosion
Veröffentlicht in Surface and interface analysis
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Sputtering induced topography development on f.c.c. metals
Veröffentlicht in Applied Physics A Solids and Surfaces
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An altered layer model for sputter-profiling
Veröffentlicht in Surface and interface analysis
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A kinematic wave description of ripple development on sand-blasted ductile solids
Veröffentlicht in Wear
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Metal contaminant accumulation in ion beam induced film growth
Veröffentlicht in Radiation effects and defects in solids
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The effects of model parameter variations on high-fluence ion implantation
Veröffentlicht in Vacuum
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