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    Plasma processed ultra-thin SiO2 interfaces for advanced silicon NMOS and PMOS devices : applications to Si-oxide/Si oxynitride, Si-oxide/Si nitride and Si-oxide/transition metal oxide stacked gate dielectrics

    Plasma processed ultra-thin SiO2 interfaces for advanced silicon NMOS and PMOS devices : applications to Si-oxide/Si oxynitride, Si-oxide/Si nitride and Si-oxide/transition metal o... von LUCOVSKY, Gerald, HANYANG YANG, WU, Yider, NIIMI, Hiroake

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