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Poly-Si gate patterning issues for ultimate MOSFET
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Process development for 30 nm poly gate patterning on 1.2 nm oxide
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Fabrication of Single Electron Devices by hybrid (E-beam/DUV) lithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Separase, a key-player of mitosis: A new target for cancer therapy?
Veröffentlicht in M.S. Médecine sciences
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