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    Microstructural defect characterisation of a-Si:H deposited by low temperature HW-CVD on paper substrates

    Microstructural defect characterisation of a-Si:H deposited by low temperature HW-CVD on paper substrates von Britton, D.T., Härting, M., Knoesen, D., Sigcau, Z., Nemalili, F.P., Ntsoane, T.P., Sperr, P., Egger, W., Nippus, M.

    Veröffentlicht in Thin solid films

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