Metal-ion-free developer compsn. - contg. choline, tri:methyl-(hydroxy-ethoxyethyl)ammonium hydroxide, alkanol-amine and water, useful in developing of positive photoresists von LEHMANN, KLAUS, O-1406 HOHEN NEUENDORF, DE, HUNDERTMARK, MONIKA, O-1135 BERLIN, DE, RABE, CHARLOTTE., O-1186 BERLIN, DE, MENZ, IRINA., O-1141 BERLIN, DE, BAUMBACH, WOLFGANG, O-1058 BERLIN, DE, HAEHNEL, ELFRIEDE, O-1197 BERLIN, DE, HARTLEP, RAIK, O-8020 DRESDEN, DE, NUSSBRUECKER, BRIGITTE, BARNIKOW, JOACHIM, O-1170 BERLIN, DE, KUEHNE, WINFRIED, O-1400 ORANIENBURG, DE, GOEBEL, GUNDOLF, O-8010 DRESDEN, DE

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METALLIONENFREIER ENTWICKLER ZUR HOCHKONTRASTENTWICKLUNG VON POSITIVFOTORESISTS AUF NAPHTHOCHINONDIAZID/NOVOLAKBASIS von HARTLEP,RAIK,DD, HUNDERTMARK,MONIKA,DD, KUEHNE,WINFRIED,DD, NUSSBRUECKER,BRIGITTE,DD, MENZ,IRINA,DD, LEHMANN,KLAUS,DD, BARNIKOW,JOACHIM,DD, RABE,CHARLOTTE,DD, HAEHNEL,ELFRIEDE,DD, GOEBEL,GUNDOLF,DD, BAUMBACH,WOLFGANG,DD

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